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  化学薄金KD-6025  

 前 

  KD-6025 是为有利于SMT与芯片封装而特别设计的置换型化学浸金,因此在浸金之前,在基材上实行充分的镍沉积是必需的(4μm以上为佳)。为此目的,我们建议用KD-6024系列作为化学镍的溶液。

 建 浴

  KD-6025 : 200 ml/L(160-240ml/L)
  Au+ :1.0g/L (0.8-2.0 g/L)

 操作条件
 温 度 : 85 ℃ (84 ~88 ℃)
 时 间 : 7 分钟 (5 ~12 分钟)
 槽材质 : PP 槽或 FRP 槽
 加热器 : PTFE 热交换器或石英加热器
 过 滤 : 5 ~ 10 μm PP 滤心, 3 ~ 5 turn-over / hr
 搅 拌 : 过滤循环
 水 洗 : 2段水洗
 其 他 : PH 值 4.5 ~ 6.0 (标准:4.6,以C.P氨水或柠檬酸调整pH值高低)
 槽液管理

 1) 固定添加:每添加10g金(即14.7g金盐)需同时添加KD-6025 约 250 ~300 ml
 2) 分析校正:依照 “ 化学金KD-6025分析方法 “ 分析错合剂,校正添加。
 3) 换槽标准:镍含量超过 800 ppm或铜含量超过 5 ppm,请换槽。
 4)金的浓度:金浓度测定用原子吸收光谱法,调整金浓度在 0.8 ~2.0g/L。
 5)PH 值的控制溶液PH值以氨水(稀释倍率)或 10% 柠檬酸溶液调整为 4.6。
 6)如果槽液超过 3 天没生产,使用前应加热至操作温度,并循环过滤4 T.O .以上才可生产。
 7)镀金槽浴应以 DI 水配槽
 8)对选择性析镀之干膜板,应例行作活性碳处理,以确保镀层之焊锡性及其它功能。



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